标题：日本SII纳米科技与Carl Zeiss NTS联合开发研发用FIB-SEM装置

日本SII纳米科技与Carl Zeiss NTS联合开发研发用FIB-SEM装置

日经BP社2006年8月3日报道 日本SII纳米科技(SII NanoTech)与德国Carl Zeiss NTS GmbH发表了面向研究开发的FIB-SEM CrossBeam装置“NVision 40”。设想用于材料分析、半导体和生命科学等广泛领域的研究开发用途。

SII纳米科技与Carl Zeiss NTS于2006年3月宣布战略合作，共同开发FIB-SEM装置。此次的装置是继7月13日发表的“XVision 300”之后的第2款合作开发品。

NVision 40以可进行高分辨率显微镜观察的Carl Zeiss NTS公司生产的“ULTRA”扫描型电子显微镜（SEM）为平台开发而成。配备“GEMINI”镜筒--具有分别对应2次电子及选择了能级的反射电子（EsB）的2种In-Lens式检测器。2个检测器在试料观测距离小、低加速电压下也可实现高检测效率。

在这一平台上配备了SII纳米科技的新型FIB镜筒和多通道气体供给系统。通过FIB镜筒实现了4nm的高分辨度，还实现了基于高电子束电流密度的大吞吐量加工以及低加速电压下的加工。通过GEMINI镜筒的高分辨率SEM观察功能，可实现刻蚀加工中的实时高分辨率监测，FIB加工时的定位和终点识别将更为容易。这样就可以高效率地加工低损伤的高质量TEM样品。 详情将在7月31日于美国芝加哥举行的电子显微镜国际学会“Microscopy & Microanalysis 2006（M＆M2006）”上发表。

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