标题：Mentor Graphics Calibre 2007.1_25 Linux 寄生參數萃取软件

Mentor Graphics Calibre 2007.1_25 Linux 寄生參數萃取软件

Calibre?是业界唯一完整的实体验証与次波长解决方案，Calibre实体验証套装工具，包括Calibre DRC与Calibre LVS在內，可確保积体电路实体设计遵守代工製造规格要求，元件功能也符合原设计规格。针对次波长设计，Calibre则利用阶层式验証引擎提供一组套装工具，可以新增或建立模型，並且验証四种主要的解析度强化技术，分別是光学製程修正（OPC）、相位移光罩（PSM）、Scattering Bar和偏轴照明（OAI）技术。身为实体验証工具市场领导者，Calibre已成为许多厂商採用標准，包括全球最大的整合元件製造商、晶圆代工厂商以及深次微米元件库供应商。

==================================================================
we will provide international express services or FTP downloads
Buy Contact E-mail: copydogcn@126.com
QQ: 3385251
My MSN: copydogcn@hotmail.com
TEL: 13017525669
============================================================================= 

Calibre产品家族介绍：

Calibre DRC & LVS

Calibre产品家族已迅速成为深次微米实体验证与次波长可製造性的业界標准工具，並为设计规则检查（DRC）、佈局与线路对比检查（LVS）、晶片与佈局对比检查、以及电气规则检查（ERC）等应用带来快速可靠的解决方案。设计复度正不断增加，电路元件的体积也越来越小，Calibre工具的发展已將这两项趋势列入考虑，並採用特殊架构以满足未来设计挑战。

Calibre內建咚阈�率極高的阶层式佈局处理引擎，可以在执行设计规则检查、佈局与线路对比检查、电气规则检查和晶片与佈局对比检查时，提供前所未有的咚闼俣龋涣硗膺�有光罩可製造性与强健性的分析与强化工具，它们会以光学製程修正和相位移光罩的形式与Calibre完全整合。由於核心引擎的功能极为强大，因此將来还会持续增加更多新功能，以充份利用它的开放式架构。

与设计方式无关（Design Style Independence）的重要性

Calibre的所有组態设定都是以標准验证规则格式（Standard Verification Rules Format）为基础，它的设计让工作规则编写人员（rule deck authors）觉得很熟悉，並足以执行最复杂的深次微米检查。由於Calibre与设计方式无关，同一组规则可用於展平式（flat）或阶层式方法，也可用於不同的设计方式 - 不必针对特定设计进行调整，也不必使用任何辅助档案；相反的，Calibre会使用一套独特、已通过实际考验的演算法，包括Selective Promotion?、Hierarchical Injection?和Bin Injection?，它们能自动分析和利用设计阶层架构的重复部份，减少验证周期时间，不必使用者提供设计的阶层架构资讯。

产品主要优点：

?　最佳工作效能：Calibre採用高效率处理引擎，可在数小时內提供扁平式与阶层式演算法的咚憬Y果，不像以前需要数天时间；另外还有多绪执行的功能选项，可大幅增加验证速度。

?　庞大处理容量：Calibre对於阶层式设计的处理容量几乎毫无限制，2GB或更多的记忆体存取能力可以协助客户发展大型设计专案；它也支援64位元作业系统，並提供4GB以上定址能力，多绪执行选项可以大幅提升工作效能，而且每颗处理器只须增加1-2%记忆体。

?　与设计方式无关：只有Calibre验证工具才能针对所有设计方式，提供操作简单的全自动阶层分析与最佳化能力，不但让执行过程更有效率，也不会影响工作效能。

?　最佳化的可製造性处理能力：所有设计规则检查工具中，只有Calibre完全整合晶片与佈局对比检查，可自动找出微影程序问题；它提供先进的天线检查能力、自动的平坦化填充功能（planarization fill）和以规则为基础的光学製程修正，为使用者带来一套完整的可製造性处理流程。

?　使用简单：Calibre产品线提供一套可立即使用的解决方案，能自动转换旧规则档案，並在结果显示环境內（Calibre RVE?）以图形操作方式轻易完成除错工作，故能整合至任何设计环境。简单又强健可靠的规则档案语法让程式设计更容易。